真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，它是將在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。這項技術(shù)最先是應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。之后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。目前真空鍍膜的形式大致可以分為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
       其中通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這是應(yīng)用最早的鍍膜技術(shù)，也是現(xiàn)代常用鍍膜技術(shù)之一；而濺射鍍膜是指用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上；而最新型的鍍膜技術(shù)-離子鍍是指蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。離子鍍技術(shù)指真空蒸發(fā)于陰極濺射技術(shù)的結(jié)合，它綜合了蒸發(fā)與濺射工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜，但是離子鍍膜機(jī)價格相比于傳統(tǒng)的真空鍍膜機(jī)要更加昂貴。

離子鍍膜機(jī)常見的離子鍍類型及特點(diǎn)

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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