真空電鍍機(jī)的真空室內(nèi)的蒸汽分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離時(shí)，就可以獲得充分的真空條件。因此，需要將殘余氣體的平均自由程增加，然后減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞幾率，把真空室抽成高真空是非常必要的。
    在用真空電鍍機(jī)真空鍍膜過程中，對(duì)于真空度的要求不是越高越好，因?yàn)楫?dāng)真空室內(nèi)的真空度超過10-6Pa時(shí)，就需要對(duì)真空系統(tǒng)進(jìn)行烘烤去氣才能達(dá)到。而烘烤會(huì)污染基片，所以會(huì)低于這個(gè)真空度下制膜，成膜的質(zhì)量也不會(huì)比超高真空制備的膜層差。這在抽真空的時(shí)候是需要考慮的問題，千萬不要忽視。

如何對(duì)真空電鍍機(jī)的工作室進(jìn)行清理

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)

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