目前，在真空鍍膜領域，較為常見的有離子鍍、蒸發(fā)鍍和濺射鍍?nèi)N鍍膜方法。今天，就由鍍膜機廠家給大家講解下離子鍍相較蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點。
    1、附著能力強、鍍層不易脫落。用離子鍍膜機進行離子鍍時，基材的表面受到離子的轟擊，不斷被清洗，提高了基片表面的附著力。同時，濺射也提高了基片表面的粗糙度。還有一個原因是離子轟擊基材時攜帶的動能在基片表面轉(zhuǎn)化成了熱能，產(chǎn)生自加熱效應，提高了基片表面的層組織的結(jié)晶性能，促進化學反應和擴散作用。
    2、繞射性好。在高壓強下，膜材被電離，電離出的離子或分子在到達基片的過程中被數(shù)次碰撞，最后濺射到基片的周圍。然后在電場的作用下沉積在負面=偏壓的基片上。
    3、鍍層質(zhì)量高。在沉積過程中不斷受到陽離子的轟擊，使得膜層更致密。
    4、可鍍材料范圍廣。
    5、沉積速率高，成膜快，可鍍制厚膜。

離子鍍膜機的真空鍍膜和水電鍍的區(qū)別

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