目前，在真空鍍膜領域，較為常見的有離子鍍、蒸發(fā)鍍和濺射鍍三種鍍膜方法。今天，就由鍍膜機廠家給大家講解下離子鍍相較蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點。
    1、附著能力強、鍍層不易脫落。用離子鍍膜機進行離子鍍時，基材的表面受到離子的轟擊，不斷被清洗，提高了基片表面的附著力。同時，濺射也提高了基片表面的粗糙度。還有一個原因是離子轟擊基材時攜帶的動能在基片表面轉化成了熱能，產(chǎn)生自加熱效應，提高了基片表面的層組織的結晶性能，促進化學反應和擴散作用。
    2、繞射性好。在高壓強下，膜材被電離，電離出的離子或分子在到達基片的過程中被數(shù)次碰撞，最后濺射到基片的周圍。然后在電場的作用下沉積在負面=偏壓的基片上。
    3、鍍層質量高。在沉積過程中不斷受到陽離子的轟擊，使得膜層更致密。
    4、可鍍材料范圍廣。
    5、沉積速率高，成膜快，可鍍制厚膜。

離子鍍膜機的真空鍍膜和水電鍍的區(qū)別

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