目前,在真空鍍膜領(lǐng)域,較為常見(jiàn)的有離子鍍、蒸發(fā)鍍和濺射鍍?nèi)N鍍膜方法。今天,就由鍍膜機(jī)廠家給大家講解下離子鍍相較蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點(diǎn)。
1、附著能力強(qiáng)、鍍層不易脫落。用離子鍍膜機(jī)進(jìn)行離子鍍時(shí),基材的表面受到離子的轟擊,不斷被清洗,提高了基片表面的附著力。同時(shí),濺射也提高了基片表面的粗糙度。還有一個(gè)原因是離子轟擊基材時(shí)攜帶的動(dòng)能在基片表面轉(zhuǎn)化成了熱能,產(chǎn)生自加熱效應(yīng),提高了基片表面的層組織的結(jié)晶性能,促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)和擴(kuò)散作用。
2、繞射性好。在高壓強(qiáng)下,膜材被電離,電離出的離子或分子在到達(dá)基片的過(guò)程中被數(shù)次碰撞,最后濺射到基片的周圍。然后在電場(chǎng)的作用下沉積在負(fù)面=偏壓的基片上。
3、鍍層質(zhì)量高。在沉積過(guò)程中不斷受到陽(yáng)離子的轟擊,使得膜層更致密。
4、可鍍材料范圍廣。
5、沉積速率高,成膜快,可鍍制厚膜。
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