真空離子鍍膜機(jī)是真空鍍膜設(shè)備的一種，它指的是一類需要在一定真空環(huán)境下進(jìn)行的鍍膜。離子鍍膜機(jī)的原理和真空鍍膜機(jī)的類似，這里就不多加贅述了。今天，給大家簡(jiǎn)單介紹下離子鍍膜機(jī)較常使用的離子鍍的類型及特點(diǎn)。
    1、電阻加熱或電子束加熱蒸發(fā)源
    ①直流放電二極型
    特點(diǎn)：繞射性好，附著性好，基板溫度易上升，膜結(jié)構(gòu)及形貌差，若用電子束加熱必須用差壓板。
    ②多陰極型
    特點(diǎn)：采用低能電子離化效率高，膜層質(zhì)量可控制。
    ③射頻放電離子鍍
    特點(diǎn)：不純氣體少，成膜好，化合物成膜更好。匹配較困難。
    2、電子束加熱蒸發(fā)源
    ①活性反應(yīng)蒸鍍
    特點(diǎn)：蒸鍍效率高，能獲得三氧化二鋁、TiN等薄膜。
    ②增強(qiáng)的ARE型
    特點(diǎn)：易離化，基板所需功率和放電功率能獨(dú)立調(diào)節(jié)，膜層質(zhì)量、厚度都容易控制。
    ③低壓等離子鍍
    特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單能獲得TiC、TiN等化合物鍍層。
    ④電場(chǎng)蒸發(fā)
    特點(diǎn)：帶電場(chǎng)的真空蒸鍍，鍍層質(zhì)量好。
    3、等離子電子束
    空心陰極放電離子鍍
    特點(diǎn)：離比效率高，電子束斑較大，金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜都能鍍。
    

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