多弧離子鍍膜機(jī)主要是通過(guò)用多個(gè)金屬蒸發(fā)源來(lái)作為其陰極，并且通過(guò)和陽(yáng)極之間產(chǎn)生弧光放電，這時(shí)靶材蒸發(fā)粒子在離化之后與進(jìn)到工作室內(nèi)的氣體發(fā)生反應(yīng)，從而使生產(chǎn)的化合物沉淀在被鍍膜基材的表面上形成膜。在鍍膜的過(guò)程中，真空壓強(qiáng)、弧源偏壓和電流、通入的氣體的流量以及真空的溫度等都要求非常精準(zhǔn)的設(shè)定和控制，其整個(gè)工藝的流程主要由予抽真空、真空工作、轟擊和濺射、鍍膜以及出爐等幾大部分所構(gòu)成，具體的流程如下所述：
    開(kāi)始-檢查儀器儀表-擴(kuò)散泵預(yù)熱-裝零件，關(guān)爐門(mén)-抽真空到設(shè)定壓力P1-充入氣體到設(shè)定壓力P2-工件轉(zhuǎn)動(dòng)，根據(jù)設(shè)定轟擊方式及次數(shù)完成轟擊-設(shè)定濕度，鍍膜偏壓-鍍膜壓力到設(shè)定值P3-根據(jù)設(shè)定流量放入氣體B-逐級(jí)加偏壓鍍膜一定時(shí)間-出爐。

多弧離子鍍膜機(jī)針對(duì)物件表面處理

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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