真空電鍍設(shè)備是指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延等很多種，不過比較常見是蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜一般是通過加熱靶材使靶材表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，使其沉降在基片表面，通過進(jìn)一步的成膜過程形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，我們可以理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且使其沉積在基片表面，經(jīng)歷進(jìn)一步成膜過程，最終形成薄膜。兩種方式需要在較高真空環(huán)境下進(jìn)行，故叫真空鍍膜技術(shù)。真空電鍍相比傳統(tǒng)水電鍍，發(fā)展?jié)摿茫瑢Νh(huán)境污染小，成本較低，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高，為各行業(yè)廣泛采用。 

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