真空電鍍主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。其中主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空電鍍機(jī)中，需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材，基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是指加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。而對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，我們可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。
其中在真空電鍍行業(yè)有一個(gè)專(zhuān)業(yè)名詞，那就是薄膜均勻性概念。其中薄膜均勻性大致可以分為三種，
1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)；
2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性；
3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題。
CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)
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